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      SiC同質外延厚度分析

      發布時間:2020-08-18 15:41:37瀏覽:eyou:arcclick /}

      鈍化層分析 鈍化層作為保護層、絕緣層或抗反射層,在半 導體材料中扮演著重要的角色。 VERTEX 系列 光譜儀是分析鈍化層的理想工具,它可以實 現快速靈敏的無損分析。
      磷硅玻璃(PSG)和硼磷硅玻璃(BPSG)中硼和 磷的定量分析  分析SiN等離子層和Si-O基鈍化層 分析超低K層

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      厚度分析 VERTEX 系列光譜儀可用于測量半導體層狀結構 中的層厚度,精度極高。此應用是基于對紅外光 在層狀結構中產生的光干涉效應的分析,可用于 亞微米量級至毫米量級的厚度分析。
       用反射或透射實驗分析層厚度。 專用的分析軟件,用于分析復雜的層狀結構。 可選薄膜掃描成像附件,可測量直徑至12”的 硅晶片。

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